| 1 | 通用電子束曝光機系統采購項目 | 用于硅基器件的圖形加工，實現微納圖形的曝光及套刻對準，支持各類正膠、負膠工藝。包括：1套通用電子束曝光機。 | 1,836 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 2 | 場發射透射電子顯微鏡采購項目 | 主要用于材料的高分辨形貌觀察、微區的晶體結構分析和成分分析。系統有電子光學系統、高壓系統、真空系統、掃描透射單元(STEM)、熱電原位實驗樣品桿、電制冷能譜儀、數字成像系統等部分組成。包括：1套場發射透射電子顯微鏡。 | 940 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 3 | 掃描型顯微及加工系統采購項目 | 該系統用于材料的表征測試和微納加工工作?？蛇M行材料表面形貌、晶體結構和元素表征，薄膜樣品加工，表面圖案化加工，原位電化學實驗。包括：1套場發射掃描型電子顯微鏡，1套聚焦離子束/電子束系統。 | 1,571 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 4 | 掃描電子顯微鏡及電子束曝光系統采購項目 | 用于表面圖案化掩模的快速加工，可對加工情況進行原位掃描電子顯微觀察。包括：1套掃描電子顯微鏡及電子束曝光系統。 | 218 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 5 | 激光直寫系統采購項目 | 主要用于無掩膜直接曝光轉移微結構圖案，將設計圖形線路利用激光直寫在涂有光刻膠之芯片、玻璃基板或陶瓷基板等基板上，適用于單片及不規則小片的無掩膜光刻工藝。主要有：掩膜板制作功能、光刻膠直寫功能、線寬距離測量功能、套刻直寫功能、三維灰階光刻功能。包括：1套激光直寫系統。 | 710 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 6 | 橢偏儀采購項目 | 主要用途為測量薄膜的厚度及光學常數，也可以測量體材料的光學常數，相位延遲等。探測低達百分之一納米的膜厚變化，材料的不同組分、摻雜、工藝不穩定導致的孔洞、各向異性傾向、折射率梯度分布等信息。包括：1套橢偏儀。 | 222 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 7 | 光學性能表征系統 | 用于測量元件的光學參數。包括：1套UV紫外可見近紅外分光光度計；3套偏振測量儀；3套光束質量分析儀； 4套任意波形發生器。 | 113 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 8 | 微納結構加工刻蝕系統采購項目 | 用于在襯底表面生長功能層和樣品刻蝕加工。包括：1套深硅刻蝕機；1套感應耦合等離子刻蝕機；1套反應離子刻蝕機；1套射頻離子束刻蝕機；1套等離子體增強化學氣相沉積系統。 | 1,157 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 9 | 薄膜生長系統采購項目 | 用于在襯底表面生長金屬，介質及半導體等薄膜。包括：1套磁控濺射設備；1套電子束蒸發設備。 | 389 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 10 | 原子層沉積系統采購項目 | 原子層沉積主要用于沉積氧化物、氮化物及金屬薄膜，主要應用于半導體器件、OLED、玻璃強化、太陽能電池鈍化層、微米納米顆粒功能性包裹、銀器的防氧化處理、高精度光學玻璃鍍膜和鋰電池等。包括：1套原子層沉積系統。 | 140 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 11 | 液晶曝光系統采購項目 | 用于大尺寸高精度液晶元件微結構加工。包括：1套300mm口徑偏振光柵曝光系統；1套100mm口徑超小周期偏振光柵曝光系統；1套液晶平板透鏡曝光系統。 | 526 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 12 | 全自動勻膠機采購項目 | 用于大尺寸液晶元件材料涂布。包括：1套直線式自動勻烤一體機；1套全自動勻膠UV一體機。 | 407 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 13 | 液晶批量加工線采購項目 | 用于大尺寸液晶元件批量加工（含摩擦、表面處理、灌晶、切割、膜厚測試等）。包括：1套摩擦機；1套邊框UV固化機；1套玻璃切割機；1套灌晶機；1套PI前烘干機/UVO 清洗機；1套膜厚測試儀；1套打線機。 | 322 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 14 | 大口徑光源采購項目 | 用于大口徑液晶元件均勻結構加工和固化。包括：4套大口徑平行光源。 | 84 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 15 | 超聲波清洗機采購項目 | 用于大尺寸玻璃基片批量清洗。包括：1套全自動超聲波清洗機。 | 61 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 16 | 液晶元件表征系統采購項目 | 用于液晶元件結構觀察和使用性能測試。包括：1套干涉儀；2套偏光顯微鏡； | 205 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 17 | 光學平臺及套件采購項目 | 用于搭建加工和測試系統。包括：光學平臺，批量光機械件套件，光學元件套件。 | 76 | 2024-12 | 否 | 否 | |
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